氦離子色譜儀一般配備高純氦氣純化器和氨離子化檢測器（PHDID）。利用純化器使得載氣高純氨純化到雜質含量小於10ppb，使得載氣純度達到ppb級雜質含量的檢測要求。配備的氨離子化檢測器對基本物質的響應例如H2、O2、N2等都在5ppb以下，*各種超高純氣體雜質含量分析。儀器配置了帶吹掃功能的氣動閥，減少空氣滲透的可能性。針對不同氣體分析有專門設計的氣路流程，一般一次進樣就能實現所測氣體的全分析。

　　軟件工作站方便簡單，能很好的實現色譜儀的自動化。針對毒性大的或者有腐蝕性氣體等，還特別配置了吹掃係統和尾氣處理係統，以及相應的防腐措施，使得分析采樣過程安全可靠。此外該分析儀現也已成為一種常規的氣體分析方法，它具有線性寬，靈敏度高等優點，對於高純氣體樣品的分析和其他檢測器相比，優勢相當明顯。經過和常規TCD+FD氣相色譜法比較，對四氟化碳中的雜質進行檢測，以期得到對於四氟化碳中雜質檢測的方法，並為建立四氟化碳行業分析標準提供依據。

　　氦離子色譜儀能滿足幾乎所有氣體和電子氣體的雜質分析，具有高靈敏度、高線性、高重複性等特點，*能滿足ppb級的雜質分析要求，各種氣體的分析方法給氣體行業提供了重要的檢測手段和標準依據。應用於矽、二氧化矽、氮化矽、磷矽玻璃及鎢薄膜材料的蝕刻。在電子器件表麵清洗、太陽能電池的生產、激光技術、氣相絕緣、低溫製冷、泄漏檢驗劑、控製宇宙火箭姿態、印刷電路生產中的去汙劑等方麵也大量使用。

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